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一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料及其制备方法
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专利号 CN201610908041.X
专利权人 武汉大学
专利类型 发明专利
领域类型 化学;冶金
有效日期 2036-10-18
法律状态 有效
合作类型 转让
价格: 面议
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摘要

本发明公布了一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料,它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,制备方法为:将金属钨纳米薄膜沉积在二氧化硅基底上,然后转移单层石墨烯到所述金属钨纳米薄膜的表面,之后交替沉积钨纳米薄膜和转移单层石墨烯,得到低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料。针对目前双金属的多层膜结构会使材料的热学性能大大降低,本发明提供了一种兼顾优秀的导热性能和抗辐照性能材料,其为以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,不仅可以减小由于多层膜结构界面存在导致的热传导性能的下降,而且可以使材料保持优秀的抗辐照能力⊙

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